Vulcan 铂金坩埚及模具

基本信息

项目 参数说明
产品名称 Vulcan 铂坩埚 / 铂模具
兼容品牌 Vulcan Fusion System(Glen Spectra / LabTech 等)
材质选择 Pt-5%Au、Pt-10%Rh、Pt-5%Au-1%Rh
铂纯度 ≥99.95%
成型方式 一体旋压、深拉或焊接
典型容量 5–50 mL 坩埚 / φ29–40 mm 模具
可选配件 坩埚钳、坩埚架、模具托、编号激光刻字

描述

产品简介

苏州科跃材料科技有限公司提供专为 Vulcan 系列自动熔融仪 设计的高品质铂金坩埚与模具,广泛适用于 XRF 和 XRD 分析样品的熔融制备。产品采用高纯度铂金合金材料(PtAu / PtRh 系列),在高温条件下具备出色的抗热冲击性、抗化学腐蚀性与机械强度,是地矿、水泥、钢铁、玻璃、陶瓷等行业常规元素分析的理想熔融器皿。


材质推荐

合金种类 特性描述
Pt-5%Au 良好的抗热震性与强度,适合大多数 XRF/XRD 熔融分析场景
Pt-10%Rh 更强抗腐蚀能力,推荐用于含氟助熔剂或特殊样品
Pt-5%Au-1%Rh 平衡型材料,延长坩埚寿命,适合高频使用环境

常规尺寸(可定制)

类型 容量 (mL) 顶部直径 (mm) 高度 (mm) 厚度 (mm)
坩埚 5–50 30–42 25–40 0.20–0.50
模具 29–40(口径) 8–12 0.40–1.0

※ 也可根据客户所用 Vulcan 系统具体型号(如 Vulcan 2M、6RX、L300 等)进行非标定制。


产品优势

  • 极高纯度:避免对分析结果造成元素干扰

  • 尺寸匹配精度高:确保自动熔样机械臂装载顺畅无卡顿

  • 耐高温、抗氧化性强:适合连续多次使用、熔融温度 1100–1200°C

  • 使用寿命长:合金结构均匀,反复升降温不易变形或粘渣

  • 编号激光刻字服务:便于多套坩埚/模具分类与管理


应用领域

  • 🌍 地质与矿产检测实验室

  • 🧱 水泥与建材企业质检中心

  • 🧪 化学成分定量分析(XRF、ICP 标准样制备)

  • 🧫 玻璃 / 陶瓷行业中间产品分析

  • 🔬 材料研发机构用于样品快速制备


包装与发货

  • 每件产品单独防刮泡沫包装

  • 配套塑料盒或铝盒便于实验室收纳

  • 出厂提供贵金属成分检测报告 / 使用说明书

  • 支持以旧换新、铂金回收再精炼服务


我们的服务优势

  • 🛠 非标定制:根据不同型号 Vulcan 熔融设备定制尺寸

  • 🔁 以旧换新:支持报废坩埚、模具高价回收

  • 🚀 交货快速:常规款现货供应,定制款 7–12 天交期

  • 🌐 国际经验丰富:出口欧美、日本、东南亚多个国家与实验室

评价

目前还没有评价

成为第一个“Vulcan 铂金坩埚及模具” 的评价者

您的邮箱地址不会被公开。 必填项已用 * 标注

常见问题

Sputtering targets are materials used in thin-film deposition processes to create coatings on substrates. They are used in industries like semiconductors, optics, photovoltaics, and electronics.

Evaporation materials are used in Physical Vapor Deposition (PVD) processes, where materials are heated and evaporated to form a thin film on a substrate. These are critical for applications in optics, wear protection, and decorative coatings.

Boat crucibles are used as containers for evaporation materials during PVD processes. They help to uniformly evaporate materials onto the substrate for thin film formation.

Sputtering uses energetic particles to eject material from a target, while evaporation involves heating a material until it vaporizes and deposits on a substrate. Both are common methods in Physical Vapor Deposition (PVD) for creating thin films.

Consider the material composition, purity, target size, and application-specific requirements such as the thickness and uniformity of the film.

Yes, we offer customized sputtering targets, evaporation materials, and crucibles to meet specific customer requirements for size, material composition, and purity.

Yes, we can assist in selecting the most suitable material based on your application, whether it’s for optical coatings, semiconductor fabrication, or decorative finishes.

Yes, we offer both bulk and small quantities of sputtering targets, evaporation materials, and spherical powders to support research, prototyping, and development projects.