Phoenix 铂坩埚及模具

基本信息

项目 参数说明
产品名称 Phoenix 铂坩埚 / 铂模具
兼容品牌 Phoenix Fusion System(e.g. Phoenix II, Phoenix GO)
材质 Pt-5%Au、Pt-10%Rh、Pt-5%Au-1%Rh 等高纯贵金属合金
纯度 ≥ 99.95%
结构工艺 一体深拉/旋压 + 激光焊接/抛光成型
形状 圆底、浅口、斜边、标准模具、组合模具等
应用方式 XRF/XRD 熔样分析熔融系统

描述

产品简介

Phoenix 铂坩埚与铂模具 是专为 Thermo Fisher Phoenix® 融样系统而设计的高性能贵金属器皿,广泛应用于水泥、矿石、玻璃、陶瓷等无机样品的 XRF 和 XRD 分析。该系列铂器皿选用高纯度 Pt 合金材料,通过高精度机械加工与焊接成型,具有极佳的抗热变形性与耐化学腐蚀性能,特别适用于高温下熔融硼酸盐类助熔剂。


合金选择与推荐

合金类型 典型用途与性能说明
Pt-5%Au 增强抗热冲击与成形稳定性,适合大多数常规样品
Pt-10%Rh 抗腐蚀性更强,适用于含氟、含碱性助熔剂或强腐蚀样品
Pt-5%Au-1%Rh 综合性能出色,适用于高频繁操作及重负载熔样系统

典型规格(可定制)

类型 容量 (mL) 顶部直径 (mm) 高度 (mm) 厚度 (mm)
坩埚 5–50 mL 30–42 25–40 0.2–0.5
模具 29 mm、32 mm、40 mm 8–12 0.5–1.0

苏州科跃支持根据 Phoenix GO, Phoenix II, Phoenix X 等系列设备提供精准匹配规格与批量定制服务。


主要应用

  • XRF 样品熔融制备:在高温下与硼酸锂类助熔剂共熔,制备均质玻璃片,提高分析精度

  • XRD 分析用模具:将冷却样品压制成一致性玻璃盘,适合晶体结构分析

  • 水泥 / 矿石 / 冶金 / 陶瓷 等行业无机成分分析

  • 实验室与第三方检测机构日常样品测试


产品优势

  • 极高纯度:Pt ≥ 99.95%,避免引入背景干扰元素

  • 尺寸精度高:一体成型,重复性高,易于匹配自动上料设备

  • 耐高温、耐腐蚀:适合1200°C以上长时间加热熔融操作

  • 重复使用性强:机械强度优于纯铂,寿命周期长

  • 清洗方便:残渣少,配合稀硝酸清洗后可再次使用


包装与售后

  • 每件铂器皿采用防刮擦独立包装

  • 外层为防震泡沫与坚固纸箱或铝盒包装

  • 出厂附带质量检验报告及合金成分说明

  • 可提供第三方检测证书、金属重量登记表

  • 支持旧铂器皿回收再生,换购优惠价新产品


延伸服务

苏州科跃材料科技有限公司拥有十余年贵金属加工与定制经验,可提供:

  • 🌟 Phoenix 设备专用铂器皿快速交付

  • 🌟 激光雕刻编号(防混用、防丢失)

  • 🌟 特种尺寸定制(如大口径、超浅模)

  • 🌟 全套 XRF/XRD 融样耗材解决方案配套

评价

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常见问题

Sputtering targets are materials used in thin-film deposition processes to create coatings on substrates. They are used in industries like semiconductors, optics, photovoltaics, and electronics.

Evaporation materials are used in Physical Vapor Deposition (PVD) processes, where materials are heated and evaporated to form a thin film on a substrate. These are critical for applications in optics, wear protection, and decorative coatings.

Boat crucibles are used as containers for evaporation materials during PVD processes. They help to uniformly evaporate materials onto the substrate for thin film formation.

Sputtering uses energetic particles to eject material from a target, while evaporation involves heating a material until it vaporizes and deposits on a substrate. Both are common methods in Physical Vapor Deposition (PVD) for creating thin films.

Consider the material composition, purity, target size, and application-specific requirements such as the thickness and uniformity of the film.

Yes, we offer customized sputtering targets, evaporation materials, and crucibles to meet specific customer requirements for size, material composition, and purity.

Yes, we can assist in selecting the most suitable material based on your application, whether it’s for optical coatings, semiconductor fabrication, or decorative finishes.

Yes, we offer both bulk and small quantities of sputtering targets, evaporation materials, and spherical powders to support research, prototyping, and development projects.