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Linn® 铂金坩埚及模具

Linn® 铂金坩埚及模具

基本信息

项目 参数说明
产品名称 Linn® 铂金坩埚 / 铂金模具
兼容设备 Linn® LabFlux 系列自动熔融炉（如 Fluxer、Fluxmatic 等）
可选合金 Pt-5%Au、Pt-10%Rh、Pt-5%Au-1%Rh
铂纯度 ≥99.95%
成型工艺 无缝旋压 / 深拉 / 激光焊接
典型规格 5–50 mL 坩埚 / φ30–40 mm 模具
配件支持 模具托、坩埚钳、专用坩埚架、激光编号

描述

产品简介

苏州科跃材料科技有限公司专业制造适用于 Linn® 自动熔样系统 的高纯度铂金坩埚与模具，采用进口贵金属原材料和精密机械加工工艺。我们的铂金坩埚系列具备优异的热稳定性、耐腐蚀性与尺寸精度，广泛应用于 XRF / XRD 样品熔融制备过程中，是地质、冶金、水泥、玻璃、矿产等行业进行常规元素定量分析的理想熔样耗材。

常用材质推荐

材料 特性说明
Pt-5%Au 热稳定性好，常规样品熔融的经济选择
Pt-10%Rh 更强耐蚀性，适合含氟、高腐蚀性助熔剂或矿石样品
Pt-5%Au-1%Rh 综合性能优越，广泛用于多批次高频率熔样场景

典型规格（可定制）

类型 容量 (mL) 上口径 (mm) 高度 (mm) 壁厚 (mm) 备注
坩埚 5–50 30–42 25–38 0.2–0.6 可带翻边
模具 – φ30–40 8–12 0.4–1.0 圆模/方模均可定制

※ 可根据 Linn® 不同型号设备（如 LabFlux Compact、Fluxmatic）或客户图纸定制尺寸与结构。

产品优势

  • ✅ 100%兼容 Linn® 系统机械臂尺寸要求，无卡顿

  • ✅ 采用高纯贵金属原料，减少样品交叉污染

  • ✅ 抗热震强、不易变形，适用于快速升降温熔样流程

  • ✅ 激光编号防混用，便于多组样本区分管理

  • ✅ 支持以旧换新 / 铂金回收服务

应用领域

  • 🌍 地质与土壤检测中心

  • 🧪 水泥、玻璃原料成分分析

  • 🏭 钢铁厂冶金熔样与质控检测

  • 🧫 无机材料研究与XRF/XRD制样

包装与发货

  • 每件产品单独泡沫槽防震包装

  • 附带原始金属成分分析报告（ICP-MS）

  • 可选订制编号刻字、样本匹配清单

  • 普通款现货供应，定制规格交期 5–10 工作日

为什么选择苏州科跃材料？

  • 🧯 拥有多年 Linn® 系统匹配经验，技术成熟

  • 🏭 工厂自控冶炼、焊接与精加工全流程，质量稳定

  • 🔁 提供“回收-翻新-再制造”一体化闭环服务

  • 🌐 国内外众多大型实验室与检测中心的合作供应商

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常见问题

Sputtering targets are materials used in thin-film deposition processes to create coatings on substrates. They are used in industries like semiconductors, optics, photovoltaics, and electronics.

Evaporation materials are used in Physical Vapor Deposition (PVD) processes, where materials are heated and evaporated to form a thin film on a substrate. These are critical for applications in optics, wear protection, and decorative coatings.

Boat crucibles are used as containers for evaporation materials during PVD processes. They help to uniformly evaporate materials onto the substrate for thin film formation.

Sputtering uses energetic particles to eject material from a target, while evaporation involves heating a material until it vaporizes and deposits on a substrate. Both are common methods in Physical Vapor Deposition (PVD) for creating thin films.

Consider the material composition, purity, target size, and application-specific requirements such as the thickness and uniformity of the film.

Yes, we offer customized sputtering targets, evaporation materials, and crucibles to meet specific customer requirements for size, material composition, and purity.

Yes, we can assist in selecting the most suitable material based on your application, whether it’s for optical coatings, semiconductor fabrication, or decorative finishes.

Yes, we offer both bulk and small quantities of sputtering targets, evaporation materials, and spherical powders to support research, prototyping, and development projects.

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