Katanax® 铂金坩埚及模具

基本信息

项目 参数说明
产品名称 Katanax® 铂金坩埚 / 铂金模具
兼容型号 K1 Prime、K2 Prime、X-300、X-600、X-960 等
材质选项 Pt-5%Au、Pt-10%Rh、Pt-5%Au-1%Rh
铂纯度 ≥99.95%
制作工艺 一体旋压 / 深拉成型 / 精密焊接
容量范围 5 mL–50 mL 坩埚,φ29–40 mm 模具
配件支持 模具托架、坩埚支架、激光编号刻字、坩埚钳等

描述

产品简介

苏州科跃材料科技有限公司专业提供与 Katanax® 全自动熔样系统 兼容的铂金坩埚及模具,广泛应用于地质、水泥、矿产、玻璃、冶金等行业的 XRF / XRD 样品前处理过程。我们的产品采用高纯度铂金合金材料,具备优异的热稳定性、抗氧化性与机械强度,能够在1100°C以上的高温环境中长期稳定工作。

我们的铂坩埚与模具可完全匹配 Katanax 自动升降机械臂与旋转熔融盘系统,确保装载顺畅,极大提高设备运行效率。


可选材质性能对比

材质 特点描述
Pt-5%Au 耐热冲击性强、通用性好,性价比高,适用于大多数样品
Pt-10%Rh 抗腐蚀性更强,适合含氟、高酸性助熔剂环境下反复熔融
Pt-5%Au-1%Rh 综合性能优,适合高频熔样流程,可延长耗材使用寿命

常规尺寸(可定制)

类型 容量 (mL) 上口径 (mm) 高度 (mm) 厚度 (mm) 备注
坩埚 5–50 30–42 25–40 0.2–0.6 可带翻边结构
模具 φ30–40 8–12 0.4–1.0 圆模 / 方模皆可定制

※ 可按不同 Katanax 设备型号(如单杯 K1 Prime 或三杯 K2 Prime)定制高度、把位、壁厚等。


产品特点

  • ✅ 与 Katanax® 自动熔样仪全兼容

  • ✅ 材料纯度高,避免样品交叉污染

  • ✅ 尺寸精准,适配自动装载系统无卡顿

  • ✅ 坩埚壁厚均匀、强度高、不易变形

  • ✅ 提供编号、批次跟踪服务,便于实验室管理


应用领域

  • 🧱 水泥 / 建材成分分析

  • 🌍 地质矿产实验室

  • 🏭 钢铁冶金行业成分控制

  • 🧪 XRF / XRD 分析样品制备

  • 🧫 无机材料研发与分析


包装与服务

  • 每只产品采用独立防刮泡沫包装

  • 提供铂金合金材质检测报告(ICP-MS)

  • 可选中文/英文编号激光刻字

  • 支持 以旧换新 / 铂金回收 服务

  • 常规产品有现货,定制交期 7–10 天


为什么选择苏州科跃?

  • 🔬 多年与 Katanax® 系统适配经验,尺寸精准

  • 🛠 自有贵金属加工车间,全流程质控

  • 🌍 远销欧美、东南亚、非洲,支持出口通关

  • ♻️ 提供一站式贵金属耗材回收+再制服务

评价

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常见问题

Sputtering targets are materials used in thin-film deposition processes to create coatings on substrates. They are used in industries like semiconductors, optics, photovoltaics, and electronics.

Evaporation materials are used in Physical Vapor Deposition (PVD) processes, where materials are heated and evaporated to form a thin film on a substrate. These are critical for applications in optics, wear protection, and decorative coatings.

Boat crucibles are used as containers for evaporation materials during PVD processes. They help to uniformly evaporate materials onto the substrate for thin film formation.

Sputtering uses energetic particles to eject material from a target, while evaporation involves heating a material until it vaporizes and deposits on a substrate. Both are common methods in Physical Vapor Deposition (PVD) for creating thin films.

Consider the material composition, purity, target size, and application-specific requirements such as the thickness and uniformity of the film.

Yes, we offer customized sputtering targets, evaporation materials, and crucibles to meet specific customer requirements for size, material composition, and purity.

Yes, we can assist in selecting the most suitable material based on your application, whether it’s for optical coatings, semiconductor fabrication, or decorative finishes.

Yes, we offer both bulk and small quantities of sputtering targets, evaporation materials, and spherical powders to support research, prototyping, and development projects.