Claisse® 铂坩埚及模具

基本信息

项目 参数说明
产品名称 Claisse® 铂坩埚 / 铂模具
材质 Pt-5%Au / Pt-10%Rh / Pt-5%Au-1%Rh 等合金
纯度 ≥ 99.95% 高纯铂
产品形状 圆底坩埚、圆柱模具、扁平模具、组合模具等
加工工艺 一体成型或焊接结构,抛光表面,无污染残留
适用设备 Claisse® 熔融系统(如 TheOx Advanced、LeNeo)

描述

产品简介

Claisse® 铂坩埚和模具 是专为 XRF(X射线荧光光谱)和 XRD(X射线衍射)样品熔融制备而设计的高端贵金属器皿。采用高纯度铂金属(Pt)与一定比例的黄金(Au)或铑(Rh)合金增强,可有效提升其抗机械变形、抗氧化和抗腐蚀性能。

这类铂制器皿在高温熔融氧化物(如硅酸盐、铝硅酸盐、硫酸盐、碳酸盐)过程中表现出极高的稳定性与化学惰性,是各类矿物分析、玻璃分析、水泥、钢铁与无机材料实验室中不可或缺的重要工具。


合金选型建议

材质 特点与用途说明
Pt-5%Au 增强强度与抗氧化能力,适用于大多数常规样品制备
Pt-10%Rh 耐腐蚀性更强,特别适用于含碱或含氟物质样品
Pt-5%Au-1%Rh 综合机械强度与耐腐蚀性能,用于要求更高的熔样场合

标准尺寸(可定制)

类型 容量 (mL) 直径 (mm) 高度 (mm)
坩埚 5 / 10 / 15 / 25 / 30 / 40 Ø29–40 25–35
模具 29 mm / 32 mm / 40 mm Ø30–40 5–10

苏州科跃支持根据客户设备(如 Claisse、Fluxana、Malvern Panalytical 等)定制匹配的坩埚和模具规格。


主要应用

  • XRF 样品熔融制备:用于将固体粉末与助熔剂混合并熔化为均匀玻璃片,以提高测试准确性和重复性

  • XRD 分析样品成型:熔融后冷却定形为标准尺寸模具,便于晶体结构分析

  • 无机材料研究:适用于水泥、玻璃、矿石、陶瓷、土壤等行业的成分定量研究

  • 高校与科研单位材料分析实验室


产品优势

  • 高纯度铂材:纯度 ≥ 99.95%,保证测试结果不被金属污染

  • 优异耐高温性:可承受 1100–1200°C 连续熔融操作

  • 抗变形:多次加热冷却循环后仍可保持几何尺寸

  • 低污染、易清洗:熔融后残留少,可反复使用,清洗方便

  • 定制灵活:支持激光打标编号、手柄焊接、开口角度定制等服务


使用注意事项

  • 使用前建议先用硝酸清洗以去除表面杂质

  • 不建议用于含氟样品(如氟硅酸盐)或强还原性环境

  • 每次使用后应及时清理,避免助熔剂残留造成腐蚀

  • 建议在惰性气氛或通风良好的环境中操作


包装与交付

苏州科跃材料科技有限公司提供高标准贵金属产品包装:

  • 每件铂坩埚/模具单独抗震密封包装

  • 内含出厂检验报告与使用建议

  • 可提供第三方检测合格证书与重量登记卡

  • 支持回收旧铂器皿、精炼并换购新产品服务

评价

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常见问题

Sputtering targets are materials used in thin-film deposition processes to create coatings on substrates. They are used in industries like semiconductors, optics, photovoltaics, and electronics.

Evaporation materials are used in Physical Vapor Deposition (PVD) processes, where materials are heated and evaporated to form a thin film on a substrate. These are critical for applications in optics, wear protection, and decorative coatings.

Boat crucibles are used as containers for evaporation materials during PVD processes. They help to uniformly evaporate materials onto the substrate for thin film formation.

Sputtering uses energetic particles to eject material from a target, while evaporation involves heating a material until it vaporizes and deposits on a substrate. Both are common methods in Physical Vapor Deposition (PVD) for creating thin films.

Consider the material composition, purity, target size, and application-specific requirements such as the thickness and uniformity of the film.

Yes, we offer customized sputtering targets, evaporation materials, and crucibles to meet specific customer requirements for size, material composition, and purity.

Yes, we can assist in selecting the most suitable material based on your application, whether it’s for optical coatings, semiconductor fabrication, or decorative finishes.

Yes, we offer both bulk and small quantities of sputtering targets, evaporation materials, and spherical powders to support research, prototyping, and development projects.