锑化镓晶圆

锑化镓晶圆具有窄带隙、高折射率和良好的红外透过性能,是红外探测器、中红外激光器、热电器件及高性能光电器件的重要基底材料,广泛用于红外成像、光谱分析与国防技术领域。

锑化镓晶圆(Gallium Antimonide Wafer, GaSb)

锑化镓(GaSb)是III-V族半导体材料中的关键成员,广泛应用于中波至长波红外探测器和焦平面阵列,具备高灵敏度、可靠性强、寿命长等优势。GaSb晶圆广泛用于红外激光器、探测器、传感器以及热光伏电池等高端领域。


锑化镓晶圆物理性能

项目 参数说明
材料 GaSb(锑化镓)
生长方法 LEC、VGF、VBG
晶格常数(Å) a = 6.094
晶体结构 M3
熔点 712°C
密度(g/cm³) 5.53 g/cm³
掺杂类型 无掺杂、碲(Te)掺杂、锌(Zn)掺杂
导电类型 P型、P型、N型(按掺杂对应)
载流子浓度(cm⁻³) (1–2)×10¹⁷、(5–100)×10¹⁷、(1–20)×10¹⁸
迁移率(cm²/V·s) 600–700、200–500、2000–350(与掺杂相关)
缺陷密度(EPD) <2000/cm²、<2000/cm²、≤2000/≤500/cm²

锑化镓晶圆技术规格

项目 参数范围
晶圆尺寸 10×10 mm、10×5 mm、2″、3″(可定制)
厚度 500 µm、600 µm、800 µm(公差 ±25 µm)
表面处理 单面抛光(SSP)或双面抛光(DSP)
晶向 <100>、<111>
晶向偏差 ±0.5°
主定位边长度 16±2 mm、22±2 mm、32.5±2 mm
次定位边长度 8±1 mm、11±1 mm、18±1 mm
总厚度变化(TTV) <10 µm、<20 µm
弯曲度(Bow) <10 µm、<20 µm
翘曲度(Warp) <15 µm、<20 µm

锑化镓晶圆包装方式

所有GaSb晶圆均在Class 1000洁净室内进行包装,采用Class 100洁净袋或专用晶圆盒密封包装,以确保材料洁净度并防止污染。