描述
铱坩埚产品介绍
铱坩埚是一种专用于高温环境的金属容器,常见于冶金、单晶生长、材料科学及半导体制造领域。铱是一种稀有贵金属,密度高达22.56 g/cm³,硬度极高且易脆,具备卓越的耐腐蚀性和极佳的热稳定性,可承受高达2000°C的高温环境。
铱坩埚主要用于高温熔炼和保持材料,适合在其他材料可能降解或发生不良反应的环境中使用。其卓越性能使其在处理反应性强的金属、合金及化合物时尤为理想,确保加工过程中的温度和纯度精准控制。铱坩埚广泛应用于单晶生长、热蒸发、化学气相沉积(CVD)及高温实验等研发领域。
铱的典型化学成分及杂质(Ir > 99.96%;单位:ppm)
| 元素 | Rh | Pd | Zn | Pt | Ru | Sb | Al | Ca | Se | Si | Au | Cr | Ni | Os | Sn | Cu | Pb | Mg | Bi | Ag | Co | Mo | Te | Mn | As |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 含量 | 42 | 22 | 21 | 18 | 15 | 11 | 7 | 6 | 5 | 4 | 3 | 3 | 3 | 3 | 3 | 3 | 3 | 2 | 2 | 2 | 2 | <2 | <2 | <2 | <2 |
铱的电学与热学性能
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电阻率(20°C):5.1 µΩ·cm
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超导临界温度:0.1100 K
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温度系数(0-100°C):0.00450 K⁻¹
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与铂的热电势差(0°C 冷端 – 100°C 热端):0.65 mV
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热膨胀系数(0-100°C):6.8 × 10⁻⁶ K⁻¹
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蒸发潜热:3186 J/g
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熔化潜热:135 J/g
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比热容(25°C):133 J/kg·K
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热导率(0-100°C):147 W/m·K
铱的力学性能
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体积模量:371 GPa(硬态)
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维氏硬度:650 KGF/mm²(硬态),200-300 KGF/mm²(软态)
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泊松比:0.26
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拉伸模量:528 GPa
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抗拉强度:硬态约1200 MPa,软态550~1100 MPa
铱坩埚主要应用
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Czochralski法(CZ法)单晶生长:用于原材料熔融并通过种晶控制单晶生长,铱坩埚的高熔点与耐腐蚀性保证了极端工艺环境的稳定性。
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半导体晶圆制造:确保高纯度单晶材料生长,满足芯片制造对材料质量的严苛要求。
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LED基板生产:用铱坩埚生长高质量蓝宝石等晶体,提升LED基板的光电性能。
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光电子器件制造:用于制造光伏电池、光学滤光片及激光器组件,保证材料的纯度和均匀性。
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先进材料研究:科研实验室用于高温材料合成及性能测试,支持新型功能材料的开发。
包装说明
苏州科跃材料科技有限公司的铱坩埚外包装标识清晰,便于快速识别与质量追踪。包装过程中严格防护,采用缓冲材料和加固箱体,确保储运安全,保持产品完好无损。




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