钨坩埚

项目 规格
产品编号 WM0120
尺寸 可定制
材质 高纯钨(W)
纯度 W≥99.95%
密度 18.2-19.0 g/cm³
表面光洁度 抛光至 Ra≤3.2

我们提供全方位的定制化服务,严格依照客户提供的技术图纸与规格要求进行生产,确保产品性能完全满足最严苛的工业应用标准。凭借先进的加工工艺和严格的质量控制体系,苏州科跃致力于为单晶生长、真空镀膜、高温烧结等高端制造领域提供可靠的钨制品解决方案。

描述

钨坩埚产品概述

钨以其卓越的耐用性和耐极端温度、耐腐蚀特性而闻名,特别适用于熔融金属和金属氧化物处理环境,是严苛工业应用的理想选择。我们采用化学气相沉积(CVD)工艺制造的钨坩埚具有以下优异特性:

  • 致密度:可达理论密度的98.5%

  • 纯度:最高达99.9999%

  • 微观结构:具有柱状或多层柱状晶体结构


标准钨坩埚技术参数

参数项 规格标准
纯度 ≥99.95%
密度 ≥18.2g/cm³
表面粗糙度 Ra≤3.2
工作温度 ≤2400℃
尺寸 可定制
生产工艺 烧结(外径>70mm)/锻造(外径<70mm)

常规产品尺寸范围

直径(mm) 壁厚(mm) 高度(mm)
30-50 2-10 30-500
50-100 3-15 30-500
100-150 3-15 30-500
150-200 5-20 30-500
200-300 8-20 30-500
300-400 8-30 30-500
400-450 8-30 30-500
450-500 8-30 30-500

注:其他特殊尺寸可接受定制,欢迎垂询


CVD钨坩埚特殊规格

  • 超高纯度:99.9999%

  • 最大外径:200mm

  • 最大高度:500mm

  • 沉积厚度:可达10mm


产品优势与应用领域

核心优势

  1. 耐高温性能:可在2400℃高温环境下稳定工作

  2. 耐腐蚀性:对熔融金属/氧化物具有极强抗腐蚀能力

  3. 低污染性:特别适合晶体生长和稀土熔炼工艺

典型应用

  • 晶体生长:蓝宝石等单晶制备

  • 冶金合金:高温金属熔炼与合金制备

  • 电子镀膜:热蒸镀电子元器件制造


专业包装方案

  • 大型坩埚:采用加固木箱包装

  • 小型坩埚:专用防震纸箱包装


常见问题解答

Q1:为何选择钨制坩埚?
A1:高熔点+低热膨胀系数,极端条件下仍能保持结构完整性

Q2:是否接受尺寸定制?
A2:支持尺寸和形状的全面定制

Q3:纯度等级有哪些选择?
A3:标准纯度≥99.95%,最高可提供99.999%超高纯产品

Q4:包装方式如何保证安全?
A4:根据尺寸采用分级防护包装方案

Q5:使用注意事项?
A5:避免急冷急热和机械冲击可显著延长使用寿命


联系我们

如需产品详情或定制咨询,欢迎联系我们的专业技术团队,我们将为您提供最适合应用需求的钨坩埚解决方案。

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常见问题

Sputtering targets are materials used in thin-film deposition processes to create coatings on substrates. They are used in industries like semiconductors, optics, photovoltaics, and electronics.

Evaporation materials are used in Physical Vapor Deposition (PVD) processes, where materials are heated and evaporated to form a thin film on a substrate. These are critical for applications in optics, wear protection, and decorative coatings.

Boat crucibles are used as containers for evaporation materials during PVD processes. They help to uniformly evaporate materials onto the substrate for thin film formation.

Sputtering uses energetic particles to eject material from a target, while evaporation involves heating a material until it vaporizes and deposits on a substrate. Both are common methods in Physical Vapor Deposition (PVD) for creating thin films.

Consider the material composition, purity, target size, and application-specific requirements such as the thickness and uniformity of the film.

Yes, we offer customized sputtering targets, evaporation materials, and crucibles to meet specific customer requirements for size, material composition, and purity.

Yes, we can assist in selecting the most suitable material based on your application, whether it’s for optical coatings, semiconductor fabrication, or decorative finishes.

Yes, we offer both bulk and small quantities of sputtering targets, evaporation materials, and spherical powders to support research, prototyping, and development projects.