钨坩埚

项目 规格
产品编号 WM0120
尺寸 可定制
材质 高纯钨(W)
纯度 W≥99.95%
密度 18.2-19.0 g/cm³
表面光洁度 抛光至 Ra≤3.2

我们提供全方位的定制化服务,严格依照客户提供的技术图纸与规格要求进行生产,确保产品性能完全满足最严苛的工业应用标准。凭借先进的加工工艺和严格的质量控制体系,苏州科跃致力于为单晶生长、真空镀膜、高温烧结等高端制造领域提供可靠的钨制品解决方案。

钨坩埚产品概述

钨以其卓越的耐用性和耐极端温度、耐腐蚀特性而闻名,特别适用于熔融金属和金属氧化物处理环境,是严苛工业应用的理想选择。我们采用化学气相沉积(CVD)工艺制造的钨坩埚具有以下优异特性:

  • 致密度:可达理论密度的98.5%

  • 纯度:最高达99.9999%

  • 微观结构:具有柱状或多层柱状晶体结构


标准钨坩埚技术参数

参数项 规格标准
纯度 ≥99.95%
密度 ≥18.2g/cm³
表面粗糙度 Ra≤3.2
工作温度 ≤2400℃
尺寸 可定制
生产工艺 烧结(外径>70mm)/锻造(外径<70mm)

常规产品尺寸范围

直径(mm) 壁厚(mm) 高度(mm)
30-50 2-10 30-500
50-100 3-15 30-500
100-150 3-15 30-500
150-200 5-20 30-500
200-300 8-20 30-500
300-400 8-30 30-500
400-450 8-30 30-500
450-500 8-30 30-500

注:其他特殊尺寸可接受定制,欢迎垂询


CVD钨坩埚特殊规格

  • 超高纯度:99.9999%

  • 最大外径:200mm

  • 最大高度:500mm

  • 沉积厚度:可达10mm


产品优势与应用领域

核心优势

  1. 耐高温性能:可在2400℃高温环境下稳定工作

  2. 耐腐蚀性:对熔融金属/氧化物具有极强抗腐蚀能力

  3. 低污染性:特别适合晶体生长和稀土熔炼工艺

典型应用

  • 晶体生长:蓝宝石等单晶制备

  • 冶金合金:高温金属熔炼与合金制备

  • 电子镀膜:热蒸镀电子元器件制造


专业包装方案

  • 大型坩埚:采用加固木箱包装

  • 小型坩埚:专用防震纸箱包装


常见问题解答

Q1:为何选择钨制坩埚?
A1:高熔点+低热膨胀系数,极端条件下仍能保持结构完整性

Q2:是否接受尺寸定制?
A2:支持尺寸和形状的全面定制

Q3:纯度等级有哪些选择?
A3:标准纯度≥99.95%,最高可提供99.999%超高纯产品

Q4:包装方式如何保证安全?
A4:根据尺寸采用分级防护包装方案

Q5:使用注意事项?
A5:避免急冷急热和机械冲击可显著延长使用寿命


联系我们

如需产品详情或定制咨询,欢迎联系我们的专业技术团队,我们将为您提供最适合应用需求的钨坩埚解决方案。