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BN-TiB₂ 电子束坩埚 是由高纯氮化硼 (BN) 和二硼化钛 (TiB₂) 复合制备而成的高性能陶瓷坩埚，结合了 BN 的优异热稳定性和 TiB₂ 的电导率与强度。该坩埚特别适用于高真空条件下的电子束蒸发沉积工艺，能有效抑制材料溅射和污染，广泛应用于光学薄膜、半导体器件、太阳能电池、硬质涂层和其他精密镀膜工艺中。
优异的抗热震性能：即使在高达 1800°C 的快速升降温环境中也能保持结构稳定
高导电性：TiB₂ 成分赋予坩埚良好的电导率，便于电子束束斑均匀扩展，改善熔池形态
抗熔蚀能力强：能承载高活性金属或化合物的蒸发（如铝、锆、钛、钽、氧化物等）
化学惰性：BN 作为主要基体材料，具有极强的化学稳定性，不与绝大多数金属或气体反应
寿命长，重复使用性高：陶瓷结构致密，耐蒸发辐照侵蚀，适合批量生产
| 外径 (mm) | 高度 (mm) | 壁厚 (mm) | 适用 E-beam 电源 (kW) | 型号参考 |
|---|---|---|---|---|
| Ø50 | 30 | 4–5 | 3–5 | BN-TiB2-50 |
| Ø76 | 40 | 5–6 | 5–10 | BN-TiB2-76 |
| Ø100 | 50 | 6–8 | 10–15 | BN-TiB2-100 |
※ 可根据客户图纸或镀膜腔体尺寸定制其他规格，如分区坩埚、多槽坩埚、内嵌冷却片等结构。
⚙️ 电子束蒸发沉积（E-beam evaporation）
用于蒸发金属、氧化物、氟化物等材料进行真空镀膜
🧪 半导体器件制造
用于制造氧化物介电层、电极材料、功能薄膜
🔬 光学镀膜 / 激光器件
高折射率/低折射率材料交替沉积的精密应用
☀️ 太阳能与光伏薄膜
蒸发 Mo、Al、ZnO 等功能层材料，提升成膜均匀性与能效
🛡 硬质涂层制备
如 TiN、Al₂O₃ 等高温耐磨涂层材料的蒸发制备
每件坩埚经超声波清洗，干燥真空密封
使用定制泡沫托盘 + 双层硬纸箱，确保运输过程无破损
可附带材质分析报告（XRD/EDS）及尺寸检验报告
标准品现货供应，定制品交期通常 7–12 工作日
✔ 自有工厂，支持从粉体配比到烧结成型的全流程质量控制
✔ 拥有 5 年以上出口经验，产品远销欧美与东南亚
✔ 熟悉电子束蒸发工艺要求，配套技术指导
✔ 支持与石墨/金属冷坩埚结构匹配设计
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