石墨电子束坩埚

产品描述

石墨电子束坩埚是用于电子束蒸发系统中的关键耗材，主要用于高纯金属、氧化物、氟化物等材料的真空镀膜。由于石墨具有优异的热导率、极高的熔点和低热膨胀系数，因此成为高温电子束熔化与蒸发的理想材料。

这些坩埚通常安装于铜坩埚或水冷坩埚中使用，可根据蒸发材料的不同类型设计为单孔、多孔、台阶结构等形状，从而提高蒸发效率和材料利用率。

应用领域

石墨E-beam坩埚广泛应用于以下领域：

• 半导体镀膜：蒸发镀制Al、Ti、Au等导电薄膜

• 光学薄膜：用于蒸发TiO₂、SiO₂、MgF₂等抗反射和增强膜材料

• 太阳能行业：用于沉积功能层（如透明导电膜）

• 硬质涂层：蒸发W、Mo、Cr等耐磨涂层金属

• 科研实验：材料物理、薄膜特性研究等高温真空实验

优势特点

• 高纯度材质：避免对镀膜材料造成污染

• 定制化服务：可根据电子束源尺寸和蒸发材料种类设计最佳结构

• 极佳的热稳定性：保证长期高温下结构不变形

• 性价比高：与金属坩埚相比，具有更低的成本与更长的使用寿命

包装与运输

每件石墨坩埚均使用无尘袋独立包装，并放入抗震泡沫或泡沫箱中，最后装入坚固的纸箱或木箱，确保运输途中的安全与产品洁净。