描述
产品描述
石墨电子束坩埚是用于电子束蒸发系统中的关键耗材,主要用于高纯金属、氧化物、氟化物等材料的真空镀膜。由于石墨具有优异的热导率、极高的熔点和低热膨胀系数,因此成为高温电子束熔化与蒸发的理想材料。
这些坩埚通常安装于铜坩埚或水冷坩埚中使用,可根据蒸发材料的不同类型设计为单孔、多孔、台阶结构等形状,从而提高蒸发效率和材料利用率。
应用领域
石墨E-beam坩埚广泛应用于以下领域:
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半导体镀膜:蒸发镀制Al、Ti、Au等导电薄膜
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光学薄膜:用于蒸发TiO₂、SiO₂、MgF₂等抗反射和增强膜材料
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太阳能行业:用于沉积功能层(如透明导电膜)
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硬质涂层:蒸发W、Mo、Cr等耐磨涂层金属
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科研实验:材料物理、薄膜特性研究等高温真空实验
优势特点
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高纯度材质:避免对镀膜材料造成污染
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定制化服务:可根据电子束源尺寸和蒸发材料种类设计最佳结构
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极佳的热稳定性:保证长期高温下结构不变形
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性价比高:与金属坩埚相比,具有更低的成本与更长的使用寿命
包装与运输
每件石墨坩埚均使用无尘袋独立包装,并放入抗震泡沫或泡沫箱中,最后装入坚固的纸箱或木箱,确保运输途中的安全与产品洁净。




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