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氧化铝电子束坩埚是专为电子束蒸发系统(E-Beam)设计的高温坩埚,广泛应用于对材料纯度和成膜质量要求极高的薄膜蒸发领域。其主体材料为高纯致密氧化铝,具有极佳的绝缘性、热稳定性和抗腐蚀性能,适合多种金属、氧化物、氟化物的蒸发使用。
通过精密烧结加工和尺寸控制,氧化铝坩埚可用于夹持在铜坩埚、石墨夹具或水冷座中,避免交叉污染并延长系统寿命。
氧化铝E-Beam坩埚广泛应用于以下高技术行业:
光学薄膜制造:蒸发氧化物(如TiO₂、Al₂O₃、SiO₂、ZrO₂)用于生产抗反射膜、硬质保护膜、增透膜等光学元件
半导体工业:用于蒸发铝、铜、铟、锗等金属材料,精密控制薄膜厚度与纯度
太阳能产业:用于沉积ITO、AZO等透明导电膜和吸光层材料
功能陶瓷薄膜沉积:如氮化物、氧化物陶瓷靶材蒸发
高纯材料实验研究:科研机构用于高温条件下的材料蒸发、合成和包覆
✅ 优异的热稳定性:可在高温下长期使用,热膨胀系数低,不易开裂
✅ 良好的化学惰性:对多数金属和氧化物材料不反应,避免污染
✅ 电绝缘性好:确保电子束聚焦稳定性
✅ 可替代Pt、W坩埚:在非还原环境下性价比更高
✅ 结构多样可定制:可设计为嵌套型、阶梯型、槽型,适应不同蒸发平台
阶梯型坩埚:外径与铜坩埚或水冷坩埚精准贴合
单孔型:用于单一材料蒸发
多孔型:适用于多源共蒸发
夹层型/套装型:用于绝热保护和防污染
氧化铝内衬杯:作为石墨坩埚的内衬,提高耐腐蚀能力并防止污染
每件氧化铝电子束坩埚均使用洁净防尘袋封装,外部采用抗震泡沫保护,并装入纸箱或木箱中,确保产品在运输与储存过程中的完整性与洁净性。
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