氧化铝电子束坩埚

基本参数

项目 参数说明
产品名称 氧化铝电子束坩埚(Alumina E-Beam Crucible)
材质 高纯氧化铝(Al₂O₃ ≥ 99.5% 或 99.8%)
结构类型 单孔型、阶梯型、插装型、内衬型
尺寸规格 Ø10~150mm,可定制孔径、深度、外径等尺寸
使用温度 ≤1800°C(建议在真空或惰性气氛中使用)
电学性质 绝缘体(良好电绝缘性,避免电子束干扰)
适配设备 电子束蒸发镀膜设备(E-Beam Evaporators)

产品简介

氧化铝电子束坩埚是专为电子束蒸发系统(E-Beam)设计的高温坩埚,广泛应用于对材料纯度和成膜质量要求极高的薄膜蒸发领域。其主体材料为高纯致密氧化铝,具有极佳的绝缘性、热稳定性和抗腐蚀性能,适合多种金属、氧化物、氟化物的蒸发使用。

通过精密烧结加工和尺寸控制,氧化铝坩埚可用于夹持在铜坩埚、石墨夹具或水冷座中,避免交叉污染并延长系统寿命。


应用领域

氧化铝E-Beam坩埚广泛应用于以下高技术行业:

  • 光学薄膜制造:蒸发氧化物(如TiO₂、Al₂O₃、SiO₂、ZrO₂)用于生产抗反射膜、硬质保护膜、增透膜等光学元件

  • 半导体工业:用于蒸发铝、铜、铟、锗等金属材料,精密控制薄膜厚度与纯度

  • 太阳能产业:用于沉积ITO、AZO等透明导电膜和吸光层材料

  • 功能陶瓷薄膜沉积:如氮化物、氧化物陶瓷靶材蒸发

  • 高纯材料实验研究:科研机构用于高温条件下的材料蒸发、合成和包覆


产品优势

优异的热稳定性:可在高温下长期使用,热膨胀系数低,不易开裂
良好的化学惰性:对多数金属和氧化物材料不反应,避免污染
电绝缘性好:确保电子束聚焦稳定性
可替代Pt、W坩埚:在非还原环境下性价比更高
结构多样可定制:可设计为嵌套型、阶梯型、槽型,适应不同蒸发平台


常见结构类型(可定制)

  • 阶梯型坩埚:外径与铜坩埚或水冷坩埚精准贴合

  • 单孔型:用于单一材料蒸发

  • 多孔型:适用于多源共蒸发

  • 夹层型/套装型:用于绝热保护和防污染

  • 氧化铝内衬杯:作为石墨坩埚的内衬,提高耐腐蚀能力并防止污染


包装方式

每件氧化铝电子束坩埚均使用洁净防尘袋封装,外部采用抗震泡沫保护,并装入纸箱或木箱中,确保产品在运输与储存过程中的完整性与洁净性。