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氧化铝电子束坩埚

氧化铝电子束坩埚

基本参数

项目 参数说明
产品名称 氧化铝电子束坩埚（Alumina E-Beam Crucible）
材质 高纯氧化铝（Al₂O₃ ≥ 99.5% 或 99.8%）
结构类型 单孔型、阶梯型、插装型、内衬型
尺寸规格 Ø10~150mm，可定制孔径、深度、外径等尺寸
使用温度 ≤1800°C（建议在真空或惰性气氛中使用）
电学性质 绝缘体（良好电绝缘性，避免电子束干扰）
适配设备 电子束蒸发镀膜设备（E-Beam Evaporators）

描述

产品简介

氧化铝电子束坩埚是专为电子束蒸发系统（E-Beam）设计的高温坩埚，广泛应用于对材料纯度和成膜质量要求极高的薄膜蒸发领域。其主体材料为高纯致密氧化铝，具有极佳的绝缘性、热稳定性和抗腐蚀性能，适合多种金属、氧化物、氟化物的蒸发使用。

通过精密烧结加工和尺寸控制，氧化铝坩埚可用于夹持在铜坩埚、石墨夹具或水冷座中，避免交叉污染并延长系统寿命。

应用领域

氧化铝E-Beam坩埚广泛应用于以下高技术行业：

  • 光学薄膜制造：蒸发氧化物（如TiO₂、Al₂O₃、SiO₂、ZrO₂）用于生产抗反射膜、硬质保护膜、增透膜等光学元件

  • 半导体工业：用于蒸发铝、铜、铟、锗等金属材料，精密控制薄膜厚度与纯度

  • 太阳能产业：用于沉积ITO、AZO等透明导电膜和吸光层材料

  • 功能陶瓷薄膜沉积：如氮化物、氧化物陶瓷靶材蒸发

  • 高纯材料实验研究：科研机构用于高温条件下的材料蒸发、合成和包覆

产品优势

✅ 优异的热稳定性：可在高温下长期使用，热膨胀系数低，不易开裂
✅ 良好的化学惰性：对多数金属和氧化物材料不反应，避免污染
✅ 电绝缘性好：确保电子束聚焦稳定性
✅ 可替代Pt、W坩埚：在非还原环境下性价比更高
✅ 结构多样可定制：可设计为嵌套型、阶梯型、槽型，适应不同蒸发平台

常见结构类型（可定制）

  • 阶梯型坩埚：外径与铜坩埚或水冷坩埚精准贴合

  • 单孔型：用于单一材料蒸发

  • 多孔型：适用于多源共蒸发

  • 夹层型/套装型：用于绝热保护和防污染

  • 氧化铝内衬杯：作为石墨坩埚的内衬，提高耐腐蚀能力并防止污染

包装方式

每件氧化铝电子束坩埚均使用洁净防尘袋封装，外部采用抗震泡沫保护，并装入纸箱或木箱中，确保产品在运输与储存过程中的完整性与洁净性。

评价

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常见问题

Sputtering targets are materials used in thin-film deposition processes to create coatings on substrates. They are used in industries like semiconductors, optics, photovoltaics, and electronics.

Evaporation materials are used in Physical Vapor Deposition (PVD) processes, where materials are heated and evaporated to form a thin film on a substrate. These are critical for applications in optics, wear protection, and decorative coatings.

Boat crucibles are used as containers for evaporation materials during PVD processes. They help to uniformly evaporate materials onto the substrate for thin film formation.

Sputtering uses energetic particles to eject material from a target, while evaporation involves heating a material until it vaporizes and deposits on a substrate. Both are common methods in Physical Vapor Deposition (PVD) for creating thin films.

Consider the material composition, purity, target size, and application-specific requirements such as the thickness and uniformity of the film.

Yes, we offer customized sputtering targets, evaporation materials, and crucibles to meet specific customer requirements for size, material composition, and purity.

Yes, we can assist in selecting the most suitable material based on your application, whether it’s for optical coatings, semiconductor fabrication, or decorative finishes.

Yes, we offer both bulk and small quantities of sputtering targets, evaporation materials, and spherical powders to support research, prototyping, and development projects.

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