蒸发源

坩埚

我们提供多种适用于热蒸发和电子束蒸发的坩埚。可选材质包括钨、钼、石英、氧化铝、铜等，满足不同应用需求。产品覆盖高温蒸发（HTE）和低温蒸发（LTE）环境，是真空镀膜中常见的蒸发源组件之一。

片舟源广泛应用于热蒸发工艺，具有多种尺寸、长度和厚度可选。我们提供多种舟型结构，适用于不同材料的加热与蒸发，常见材质包括钼、钨、钽等。

紧凑型电子蒸发源适用于空间或功率有限的系统，是小型设备和实验平台的理想选择。产品尺寸通常小于 2 英寸，便于集成，效率高，适用于微电子器件的精密镀膜。

热丝源是一种成本低、易于使用的蒸发方案，常用于短时闪蒸应用。它们由钨、钼丝等材料制成，可单股或多股结构，适配各种蒸发材料。

此类蒸发棒针对附着层等高质量膜层设计，常采用钨棒或钨包钨丝结构制成。我们提供多种尺寸与形状，满足不同薄膜工艺的蒸发需求。

无需坩埚即可加载材料的加热方式，适用于粉末、颗粒等材料的蒸发。一般采用钨丝编织结构，亦提供氧化铝涂层型号，以适配易与难熔金属反应的材料。

与坩埚配套使用的加热器，可容纳更多材料，提高蒸发效率。类型包括编织篮式加热器与屏蔽式加热器，适用于不同功率和温控需求。

箱式源设计用于特定材料的镀膜应用，内部挡板可避免材料溅射污染，提高沉积均匀性。适合对膜厚均匀性和方向性有要求的应用环境。

此类源专为某些特殊应用替代氧化铝坩埚而设计，在保持化学稳定性的同时提高了使用灵活性。常用于对高纯、惰性材料有要求的镀膜工艺中。