氧化铝涂层微电子蒸发源

概述

氧化铝涂层蒸发源被设计为某些特定应用中氧化铝坩埚的替代品,在提供优异的热传导性能的同时,也与大多数金属具有良好的兼容性。这类蒸发源可以防止蒸发材料附着在氧化铝表面上,从而在材料熔化成球形点源时保持电阻的稳定性,延长使用寿命。

由于热传导降低,涂层蒸发源需要额外 30% 到 50% 的功率。该氧化铝涂层采用等离子喷涂工艺,所用材料为半导体级氧化铝

为了防止过热,建议避免温度超过 1850°C,并在蒸发过程中降低功率,以确保安全稳定运行。

收窄型槽结构

#082: Molybdenum

 

凹点

#083: Molybdenum

 

倒置顶帽型凹点

#083: Molybdenum

 

倒置顶帽形槽

#083: Molybdenum

 

加热器罩

箱式加热器

#085: Alumina-Coated Tantalum

 

箱式加热器专用罩

#086: Alumina-Coated Tantalum

 

半英寸凹点

#087: Alumina-Coated Tantalum

 

四分之一英寸凹点

#088: Alumina-Coated Tantalum

 

9/32英寸凹点

#089: Alumina-Coated Tantalum

 

半英寸凸帽式凹点

#090: Alumina-Coated Tantalum