氧化铝涂层蒸发源被设计为某些特定应用中氧化铝坩埚的替代品,在提供优异的热传导性能的同时,也与大多数金属具有良好的兼容性。这类蒸发源可以防止蒸发材料附着在氧化铝表面上,从而在材料熔化成球形点源时保持电阻的稳定性,延长使用寿命。
由于热传导降低,涂层蒸发源需要额外 30% 到 50% 的功率。该氧化铝涂层采用等离子喷涂工艺,所用材料为半导体级氧化铝。
为了防止过热,建议避免温度超过 1850°C,并在蒸发过程中降低功率,以确保安全稳定运行。
#082: Molybdenum
#083: Molybdenum
#085: Alumina-Coated Tantalum
#086: Alumina-Coated Tantalum
#087: Alumina-Coated Tantalum
#088: Alumina-Coated Tantalum
#089: Alumina-Coated Tantalum